在集成電路制造的光刻環節中，硅片表面的親水性與光刻膠的疏水性如同 “水火難容"—— 未經處理的硅片會因表面羥基吸附水分，導致光刻膠涂布時出現氣泡、漂條，最終造成圖形轉移失敗。而 HMDS真空烘箱正是破解這一難題的關鍵設備，它通過六甲基二硅氮烷（HMDS）的化學作用，將硅片表面由親水轉為疏水，為光刻膠搭建穩固的 “附著橋梁"。
這種轉變的化學原理十分精妙：HMDS 分子會與硅片表面的羥基發生反應，生成均勻的硅醚薄膜，消除表面氫鍵作用，使極性表面變為非極性表面。經處理后，光刻膠與硅片的附著力可提升 30% 以上，顯著降低顯影和刻蝕環節的缺陷率，對7nm以下先進制程的精度控制至關重要。
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